6月17日，激光加工设施厂商大族激光在互动平台表示，公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。

  不久前，大族激光还在互动平台表示，目前公司正在研发光刻机项目，重心放在分立器件与LED等领域的应用。据了解，该光刻机产品应当是较为低端的光刻机设备。

  资料显示，大族激光成立于1996年，是亚洲最大、世界上的排名前三的工业激光加工设施制造商，基本的产品包括激光打标机系列、激光焊接机系列、激光切割机系列、新能源激光焊接设备、激光演示系列、PCB钻孔机系列、工业机器人等多个系列200余种工业激光设备及智能装备解决方案。

  下一篇：大族激光：在研光刻机分辨率达3-5μm，2020年有望小批量销售

  同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品 不仅仅可以应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造 还可应用于逐渐兴盛的XR器件制造领域 佳能将于2023年3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机新产品----i线步进式光刻机“FPA-5550iX”， 该产品能够同时实现0.5μm（微米※2）高解像力与50×50mm大视场曝光。 FPA-5550iX 新产品“FPA-5550iX”能够同时实现50×50mm大视场及0.5μm高解像力曝光，在不断趋向高精尖化的全画幅CMOS传感器制造领域中，使得单次曝光下的高解像力成像成为可能。同时，通过充分的利用高解像力与大视场的优势，“FPA-5550iX”

  新品 /

  Intel这几年在工艺进度上落后跟10nm、7nm工艺多次跳票有关，而新工艺延期也跟Intel此前不考虑EUV工艺有关，所以10nm工艺才上了四重曝光，导致良率上不去，迟迟无法量产。 Intel之前认为EUV工艺不够成熟，现在EUV光刻工艺已经量产几年了，Intel也开始跟进了，原先的7nm工艺、现在的Intel 4工艺会是全面使用EUV光刻机的开始，首款产品是Meteor Lake流星湖，2023年发布。 之后的Intel 3工艺、Intel 20A工艺上也会持续利用EUV工艺，逐步提升性能及能效。 再往后Intel还会积极跟进EUV技术发展，2025年之后的工艺已规划到了Intel 18A，将使用第二代R

  近年来，ASML站到了世界半导体技术的中心位置。去年ASML两次提高了生产目标，希望到2025年，其年出货量能达到约600台DUV（深紫外光）光刻机以及90台EUV（极紫外光）光刻机。由于持续的芯片短缺，交付问题每天都在发生，而且ASML还遇到了柏林工厂火灾这样的意外。 日前，ASML的首席技术官Martin van den Brink接受了Bits & Chips的采访。 据Martin van den Brink介绍，开发High-NA EUV技术的最大挑战是为EUV光学器件构建计量工具，配备的反射镜尺寸为此前产品的两倍，同时需要将其平整度控制在20皮米内。这种需要在一个“可以容纳半个公司”的真空容器中做验证，其位于

  1月7日，芯源微发布期接受机构调研的活动记录表，芯源微表示，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际大品牌以及国内的上海微电子(SMEE)的光刻机联机应用。 天眼查信息数据显示，芯源微成立于2002年，是由中科院沈阳自动化研究所创建的国家高新技术企业，专门干半导体生产设备的研发、生产、销售与服务，致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案。 在谈及芯源微前道涂胶显影机Track与国际光刻机联机是否还有技术壁垒时，芯源微称，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际大品牌以及国内的上 海微电子（SMEE）的光刻机联机应用。 芯源微

  电子网消息，据浙江在线nm节点浸没式光刻机产品研发”的核心部件“光刻机浸液系统”项目签约入驻杭州青山湖科技城。     目前，该项目已拥有60余项发明专利，团队现有研发人员100余人。同时，该项目总投资5亿元，拟在青山湖科技城核心区新增用地25亩。     “28nm节点浸没式光刻机产品研发”针对的是高端光刻机。这是集成电路装备中技术难度最高的关键设备，目前，全世界只有少数几家公司能制造。相关负责的人介绍，该项目有望打破国外垄断，打造拥有自主知识产权的高端光刻机设备，对于我国芯片产业高质量发展具有重大意义。

  光刻机巨头公司ASML周三公布了2023年第一季度的财务数据。财报多个方面数据显示，截至 3 月 31 日ASML第一季度净销售额67.5亿欧元（约合人民币505.18亿元），同比增长90.9%；净利润19.6亿欧元（约合人民币150.8亿元）比一年前的 6.95 亿欧元高出近 3 倍。其收入增长了 91%，达到 67.4 亿欧元。 根据 Refinitiv 的数据，分析师此前预计纯利润是 16.2 亿欧元，营收为 63.1 亿欧元。 ASML CEO Peter Wennink 表示，随着行业努力使库存达到更健康的水平，我们继续看到来自不同终端市场细分市场的混合需求信号。一些主要客户正在进一步调整需求时间，同时我们也看到其他客户

  依然供不应求 /

  据报道，为了从台积电手中夺回“全球最先进芯片制造商”的地位，英特尔今日向荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）订购了一款最先进的芯片制造机（光刻机）。 这款光刻机目前仍处于设计阶段，预计数年后才会交付。阿斯麦今日在财报电话会议上称，该公司目前已收到5台下一代光刻机的订单，以及一台仍在设计中的更新型号的订单。随后，阿斯麦和英特尔在另一份联合声明中称，英特尔就是更新型号光刻机的买家。 阿斯麦最先进的商用机器被称为“EUV光刻系统”，使用“极紫外光”（EUV）光波来绘制计算机芯片的电路的，其大小相当于一辆公交车，每台成本约为1.5亿美元。一家先进芯片工厂常常要9~18台这样的设备。因此，光刻机是芯片制造商最大的资本开支之一。

  12月2日，上海新阳在互动平台表示，公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，ARF193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货。 上海新阳表示，ARF193nm光刻胶是芯片制造进入90nm铜互联制程后最重要的主流光刻胶产品，一直是国内空白。研发此款光刻胶意在填补国内空白，实现芯片制造在关键工艺技术和材料技术的自主可控。经过近三年的研发，关键技术已有重大突破，已从实验室研发转向产业研发。 根据规划，上海新阳将在未来5-10年，对国内尚属空白的各类高端半导体光刻胶和光刻胶配套材料来研发，逐步形成公司第三大核心技术-电子光刻技术。其中，KRF光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，预计明年上半年开始

  半导体设备研究系列之明暗场缺陷检验测试设备：一“明”一“暗”检缺陷，相辅相成提良率

  的技术原理和技术发展趋势

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